关于N-保护的2-取代-3-氮杂-5-己烯基自由基环化中顺式选择性的起源：密度泛函研究

David Shanks，Stefan Berlin，Magnus Besev，Henrik Ottosson和Lars Engman *

*乌普萨拉大学化学研究所有机化学系，599，瑞典乌普萨拉，

D. Shanks，S。Berlin，M。Besev，H。Ottosson，L。Engman，J。Org。化学。， 2004年， 69，1487-1491。

DOI： 10.1021 / jo030294h （免费支持信息）

抽象

在UV照射下使用三（三甲基甲硅烷基）硅烷（TTMSS）/ AIBN 还原自由基环化N-烯丙基-N-二甲基膦基-2-氨基丙基苯基硒，得到相应的吡咯烷，产率为74％，顺/反比为10/1。优于热循环。

非对映体比率为不如，所获得使用diphenylphosphonoyl保护基团（M. Besev，L. Engman，有机化学快报。，2000，2，1589年至1593年）。